一种中心供液行星抛光装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种中心供液行星抛光装置，包括基座板、公转单元、自转单元、供液供气单元、加载单元和抛光轴组件；公转单元的公转电机通过一级带传动副将动力传递给中空公转轴，中空公转轴的一端设有连接法兰，连接法兰设有偏心调节机构；自转单元包括自转电机、传动软轴和抛光盘；供液供气单元的空心转轴与中空公转轴的另一端连接，抛光轴组件的空心抛光轴与供液供气单元中的供液管和自转单元的抛光盘连接；公转电机带动偏心调节机构绕轴线O1公转；自转电机带动抛光盘绕其轴线O2自转，该装置实现了将抛光液从工具中心进行供给，供液更加充分；公自转速度和偏心距可实现无极变化调节，且调节方便；自转电机不参与公转，降低了转动惯量。
基本信息
专利标题 ：
一种中心供液行星抛光装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020868573.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-21
授权号 ：
CN212470876U
授权日 ：
2021-02-05
发明人 ：
曹中臣张军鹏林彬姜向敏
申请人 ：
天津大学
申请人地址 ：
天津市津南区海河教育园雅观路135号天津大学北洋园校区
代理机构 ：
天津市北洋有限责任专利代理事务所
代理人 ：
李丽萍
优先权 ：
CN202020868573.7
主分类号 ：
B24B13/00
IPC分类号 ：
B24B13/00 B24B57/02 B24B47/12 B24B41/04 B24B47/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B13/00
为磨削或抛光透镜上的光学表面和其他工件上相似形状表面设计的机床或装置及其附件
法律状态
2021-02-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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