微动台及包括微动台的运动装置
授权
摘要
本实用新型提供一种运动装置，包括：载台；旋转底座，位于载台下方，其上表面设有环形上部凹腔，下表面设有下部凹腔，上部凹腔与下部凹腔在垂直于旋转台的上表面方向上的投影相互错开；旋转电机，容纳在环形上部凹腔内，并包括旋转电机动子和旋转电机定子，旋转电机定子相对于旋转底座固定，旋转电机动子相对于载台固定；垂向驱动装置，位于下部凹腔内并构造成能够驱动旋转台垂直移动；浮动重力补偿装置，位于下部凹腔内并能够对旋转台进行重力补偿；以及微动底座具有面向上的凹腔，旋转底座位于凹腔内并通过交叉滚子导轨垂向可滑动地连接至微动底座。本实用新型的运动装置垂向尺寸显著减小，显著增加运动装置的垂向运动精度和垂向导向精度。
基本信息
专利标题 ：
微动台及包括微动台的运动装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020876271.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-22
授权号 ：
CN211605113U
授权日 ：
2020-09-29
发明人 ：
吴火亮陈啸虎瞿晓晨陈椿元杨日升
申请人 ：
上海隐冠半导体技术有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区南汇新城镇环湖西二路888号C楼
代理机构 ：
上海上谷知识产权代理有限公司
代理人 ：
蔡继清
优先权 ：
CN202020876271.4
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/677
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-09-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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