一种等离子体刻蚀系统及其可用于加热的法拉第屏蔽装置
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摘要
本实用新型公开了一种等离子体刻蚀系统及其可用于加热的法拉第屏蔽装置，法拉第屏蔽装置包括法拉第屏蔽板和加热电路；法拉第屏蔽板包括导电环和多个辐射对称连接在导电环外周的导电瓣状件；加热电路用于刻蚀工艺时，通电加热法拉第屏蔽板。本实用新型当刻蚀工艺时，导通加热电路与法拉第屏蔽板，使法拉第屏蔽板通电温度升高，加热介质窗，减少产物的沉积量；由于法拉第屏蔽板与介质窗直接接触，加热效率高，热量散失少，简化了设备结构；当清洗工艺时，关闭加热电路与法拉第屏蔽板，法拉第屏蔽板接入屏蔽电源，对介质窗进行清洗；加热电源的输出端经滤波电路单元滤波后，连接至法拉第屏蔽板，有效防止射频线圈与法拉第屏蔽板之间产生耦合。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子体刻蚀系统及其可用于加热的法拉第屏蔽装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020935358.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-28
授权号 ：
CN211957597U
授权日 ：
2020-11-17
发明人 ：
郭颂刘海洋王铖熠程实然刘小波张军胡冬冬许开东
申请人 ：
北京鲁汶半导体科技有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区经海二路28号4幢2层203
代理机构 ：
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 ：
肖鹏
优先权 ：
CN202020935358.4
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32 H01J37/02 H01J37/305 H01L21/67 H05B1/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2020-11-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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