一种等离子清洗装置
授权
摘要
本实用新型提供了一种等离子清洗装置，包括机架、伺服平台、清洗头机构及用于夹紧待清洗电芯的模组定位机构，所述伺服平台及模组定位机构均设置于机架上，所述模组定位机构位于所述伺服平台一侧，所述清洗头机构活动设置于所述伺服平台上且与伺服平台传动连接，所述伺服平台驱动所述清洗头机构运动至模组定位机构的清洗工位，以通过清洗头机构对所述模组定位机构夹紧的电芯进行清洗。实现了对模组夹紧定位并等离子清洗模组两侧面的功能，实现了其他龙门平台机构或机器人一样的功能，并且比其他机构更有优势，如机构紧凑、成本低优点。
基本信息
专利标题 ：
一种等离子清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021108307.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-15
授权号 ：
CN213051881U
授权日 ：
2021-04-27
发明人 ：
韦友吉杨义平李辉张秋根孟凡涛郭兰省周鸿黄子龙王俊党辉黄祥虎高云峰
申请人 ：
大族激光科技产业集团股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区深南大道9988号
代理机构 ：
深圳市恒申知识产权事务所(普通合伙)
代理人 ：
任哲夫
优先权 ：
CN202021108307.0
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2021-04-27 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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