一种氩离子截面抛光用制样装置
授权
摘要
本实用新型提出了一种氩离子截面抛光用制样装置，包括底座、挡板、滑块、固定组件和调节组件；底座水平布置，底座上开设有贯穿的观察孔，挡板、滑块相对布置在底座上方并分别位于观察孔两侧，且挡板与滑块之间的距离可调，固定组件安装在底座一端并用于固定挡板，调节组件安装在底座另一端，调节组件与滑块连接并用于调节滑块移动。本实用新型能够有效控制样品切割突出量，确定样品切割平面，提高制样效率，缩短切割时长，制备有效的切割样品。
基本信息
专利标题 ：
一种氩离子截面抛光用制样装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021136291.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-18
授权号 ：
CN212600655U
授权日 ：
2021-02-26
发明人 ：
张浩刘陈飞郭圆圆
申请人 ：
合肥国轩高科动力能源有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区岱河路599号
代理机构 ：
合肥市长远专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
叶美琴
优先权 ：
CN202021136291.4
主分类号 ：
B24B1/00
IPC分类号 ：
B24B1/00 B24B41/06 B24B41/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺；与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2021-02-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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