一种提高精度的磁光克尔测量调节装置
授权
摘要
一种提高精度的磁光克尔测量调节装置，包括第一底座，所述第一底座上设有X轴滑轨，所述X轴滑轨上安装有第一电动滑台，所述第一电动滑台连接有Y轴滑轨，所述Y轴滑轨上安装有第二电动滑台，所述第二电动滑台上安装有气缸，所述气缸连接固定块，圆柱形旋转杆横穿过固定块，圆柱形旋转杆一端的凸台连接有固定座；所述底座的一侧还设有水准仪，所述水准仪包括升缩杆和薄膜,所述薄膜上设有圆孔。能够准确调节光学器件位置，提高磁光克尔测量的精度。
基本信息
专利标题 ：
一种提高精度的磁光克尔测量调节装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021180224.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-23
授权号 ：
CN213240470U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
刘卫滨
申请人 ：
北京东方晨景科技有限公司
申请人地址 ：
北京市海淀区中关村东路66号世纪科贸大厦B座2203室
代理机构 ：
南京常青藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
毛洪梅
优先权 ：
CN202021180224.2
主分类号 ：
G01R33/032
IPC分类号 ：
G01R33/032
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01R
测量电变量；测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/02
测量磁场或磁通量的方向或大小
G01R33/032
采用磁—光设备，例如法拉第的
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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