一种上、下室镀膜隔离装置
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摘要
本实用新型公开了一种上、下室镀膜隔离装置，包括基体、真空仓、真空泵、电机和加热管，所述基体的内部安装有隔板，所述基体和真空仓的一侧均连接有真空泵，所述放膜卷辊位于收膜卷辊的下方，所述基体的内部安装有第一导向辊，所述基体的右侧内部安装有镀膜鼓，所述真空仓的内部安装有蒸发箱，所述收膜卷辊、放膜卷辊、第一导向辊、镀膜鼓和第二导向辊的外表面均连接有膜本体。该上、下室镀膜隔离装置，基体内部设置有隔板，通过隔板可以实现真空仓内部空间的有效划分，配合真空仓内设置的蒸发箱，能够有效防止真空仓内的蒸汽散发，便于在镀膜过程中实现较大的镀膜蒸发量，进而提高了膜层厚度，提升了镀膜的质量。
基本信息
专利标题 ：
一种上、下室镀膜隔离装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021187897.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-24
授权号 ：
CN212388107U
授权日 ：
2021-01-22
发明人 ：
刘明悦高琳瑛
申请人 ：
青州德宝工贸有限公司
申请人地址 ：
山东省潍坊市青州市黄楼街道东坝村
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021187897.0
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2021-01-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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