一种具有调节功能的金属化薄膜镀膜设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种具有调节功能的金属化薄膜镀膜设备，包括安装架，所述安装架左端下侧固定安装有机箱，所述安装架下端右部和右端下侧共同固定安装有安装框，所述安装架下端中部开有滑槽，所述安装框和机箱内部均固定安装有推动装置，所述推动装置远离机箱和安装框的一侧上部分别固定安装有一号开关和二号开关，所述安装框上端固定安装有移动装置，所述移动装置上端固定安装有镀膜件。本实用新型所述的一种具有调节功能的金属化薄膜镀膜设备，通过调整挡板的位置改变蒸发口的大小，实现镀膜量的调节，使得该镀膜设备能根据客户需求进行生产；而推动装置可调整蒸发箱的运动轨迹，使该镀膜设备能适应不同幅宽的镀膜作业，使得适用范围变广。
基本信息
专利标题 ：
一种具有调节功能的金属化薄膜镀膜设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021277407.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-03
授权号 ：
CN212894941U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
胡章启
申请人 ：
安徽威斯康电子材料有限公司
申请人地址 ：
安徽省铜陵市狮子山高新技术开发区
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021277407.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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