双后腔声学结构
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摘要

本实用新型公开了一种双后腔声学结构,包括壳体以及分隔件,壳体的内部具有容纳空间,容纳空间用于设置喇叭,容纳空间能够被喇叭分隔成前腔和后腔,且喇叭的前端朝向前腔,壳体具有出音口,出音口与前腔连通;分隔件位于后腔,分隔件用于覆盖于喇叭的后端,分隔件与喇叭的后端之间形成第一后腔,其余后腔成为第二后腔,分隔件上设置有用于连通第一后腔与第二后腔的空气通道。本实用新型的双后腔声学结构,分隔件将后腔分隔为第一后腔和第二后腔,喇叭后端直接对接第一后腔,第一后腔的体积较小,低频音频不易扩散,高频音频得到降低,改善低频音质,实现更加深度的低频下潜效果。

基本信息
专利标题 :
双后腔声学结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021387833.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-15
授权号 :
CN212463484U
授权日 :
2021-02-02
发明人 :
张崇成吕晓军陈智俊沈聪颖
申请人 :
杭州网易再顾科技有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市滨江区长河街道网商路599号4幢411室
代理机构 :
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 :
朱琳爱义
优先权 :
CN202021387833.5
主分类号 :
H04R1/10
IPC分类号 :
H04R1/10  
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法律状态
2021-02-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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