一种应用于等离子体射流设备的超声聚焦装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种应用于等离子体射流设备的超声聚焦装置，包括等离子机体和前端圆环，所述前端圆环安装固定在等离子机体的前端中间位置上，所述等离子机体和前端圆环通过固定螺钉固定连接，所述等离子机体的后端中间设置有数据连接线，所述前端圆环的前端中间设置有射流端头，通过陶瓷聚焦片、绝缘导线和电路板的组合使用，使得有效进行控制使用，在通电的时候，陶瓷聚焦片产生震动从而发出超声波，超声波作用于设备喷射出的射流，从而达到效果，这样通过该聚焦装置的设计，使陶瓷聚焦片产生的超声波作用于低温等离子设备产生的射流，从而对射流起到一个聚焦并矫正的作用，这样使得设备在运作的时候产生更优良的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种应用于等离子体射流设备的超声聚焦装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021525318.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
CN212649772U
授权日 ：
2021-03-02
发明人 ：
贺华张信华崔鹏刚
申请人 ：
苏州华圣恩智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市相城区黄埭镇太东路2555号6号楼2层202室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202021525318.9
主分类号 ：
H05H1/00
IPC分类号 ：
H05H1/00
法律状态
2021-03-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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