具有聚焦环调整组件的等离子处理设备
授权
摘要
提供了一种等离子体处理设备。该等离子体处理设备包括限定竖直方向和横向方向的处理室。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的基座。该基座被配置为支撑衬底。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的射频(RF)。RF偏置电极限定了沿着横向方向在RF偏置电极的第一端与RF偏置电极的第二端之间延伸的RF区。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的聚焦环。该等离子体处理设备还包括聚焦环调整组件。该聚焦环调整组件包括提升销,该提升销位于RF区的外部。该提升销可沿着竖直方向移动,以沿着竖直方向调整底座和聚焦环之间的距离。
基本信息
专利标题 :
具有聚焦环调整组件的等离子处理设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112470249A
申请号 :
CN202080004153.7
公开(公告)日 :
2021-03-09
申请日 :
2020-05-13
授权号 :
CN112470249B
授权日 :
2022-05-27
发明人 :
马丁·L·朱克P·J·伦贝西斯T·特维斯瑞安·帕库尔斯基马绍铭杨晓晅
申请人 :
玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技有限公司
申请人地址 :
美国加利福尼亚州
代理机构 :
北京市铸成律师事务所
代理人 :
王艳波
优先权 :
CN202080004153.7
主分类号 :
H01J37/32
IPC分类号 :
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-05-27 :
授权
2021-04-09 :
著录事项变更
IPC(主分类) : H01J 37/32
变更事项 : 申请人
变更前 : 玛特森技术公司
变更后 : 玛特森技术公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国加利福尼亚州
变更后 : 美国加利福尼亚州
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京屹唐半导体科技有限公司
变更后 : 北京屹唐半导体科技股份有限公司
变更事项 : 申请人
变更前 : 玛特森技术公司
变更后 : 玛特森技术公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国加利福尼亚州
变更后 : 美国加利福尼亚州
变更事项 : 申请人
变更前 : 北京屹唐半导体科技有限公司
变更后 : 北京屹唐半导体科技股份有限公司
2021-03-26 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20200513
申请日 : 20200513
2021-03-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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