提供了一种等离子体处理设备。该等离子体处理设备包括限定竖直方向和横向方向的处理室。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的基座。该基座被配置为支撑衬底。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的射频(RF)。RF偏置电极限定了沿着横向方向在RF偏置电极的第一端与RF偏置电极的第二端之间延伸的RF区。该等离子体处理设备包括设置在处理室内的聚焦环。该等离子体处理设备还包括聚焦环调整组件。该聚焦环调整组件包括提升销，该提升销位于RF区的外部。该提升销可沿着竖直方向移动，以沿着竖直方向调整底座和聚焦环之间的距离。