一种聚焦环及等离子体处理装置

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摘要

本实用新型公开了一种聚焦环及等离子体处理装置，属于半导体制造技术领域，聚焦环包括：环体，台阶部，环体于外圆的投影面方向被分成多个环部件；等离子体处理装置包括:基座，电极；上述技术方案的有益效果是：当顶针将晶圆放置于聚焦环上或者顶出聚焦环时，驱动装置驱动对应的聚焦环部件沿着晶圆所在平面、向远离晶圆的方向移动，晶圆不会因为倾斜等其他原因撞击到聚焦环；当晶圆被放置于聚焦环上进行等离子体处理时，驱动装置驱动对应的聚焦环部件沿着晶圆所在平面、向靠近晶圆的方向移动，不会降低聚焦环的聚焦功能，同时在靠近的过程中对晶圆的位置起到纠偏作用。

基本信息

专利标题：

一种聚焦环及等离子体处理装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921892371.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-05

授权号：

CN210866114U

授权日：

2020-06-26

发明人：

郝林坡

申请人：

武汉新芯集成电路制造有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市东湖开发区高新四路18号

代理机构：

上海申新律师事务所

代理人：

俞涤炯

优先权：

CN201921892371.X

主分类号：

H01J37/32

IPC分类号：

H01J37/32 H01L21/67 H01L21/18