本发明提供能够将边缘环高精度地载置在基片支承台的等离子体处理装置及系统和边缘环的位置对准方法。等离子体处理装置包括支承基片和边缘环的基片支承台、使边缘环在上下方向上移动的升降机构和控制部，边缘环具有与该边缘环同心的孔，基片支承台包括：载置基片且向上方突出的凸部；环载置部，其在边缘环的孔中插入有凸部的状态下载置该边缘环；和对凸部的温度进行调节的温度调节机构，边缘环的孔与基片支承台的凸部具有俯视时彼此对应的形状，控制部控制升降机构和温度调节机构，以执行：使边缘环移动至规定位置而成为边缘环的孔中插入有基片支承台的凸部的状态的步骤；和移动步骤后，加热基片支承台的凸部而使其在径向上膨胀的步骤。