一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置

授权

摘要

本发明公开一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置，包括上盖、聚焦装置主体、下盖、球铰喷头、等离子体射流发生器，所述上盖和所述下盖分别固定设置在所述聚焦装置主体的上下两端，所述等离子体射流发生器设置在所述聚焦装置主体内，所述球铰喷头设置在所述聚焦装置主体下端并对应所述离子体射流发生器的出射口设置；本发明利用流体聚焦原理设计出气流辅助聚焦装置实现对大气压冷等离子体射流的聚焦，具有结构简单、操作方便、聚焦效果好且可同时屏蔽空气对等离子体射流影响等优点，可大大提高大气压冷等离子体射流的加工精度并提高对其特性的可控性。

基本信息

专利标题：

一种大气压冷等离子体射流气流辅助聚焦装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111885808A

申请号：

CN202010713912.9

公开（公告）日：

2020-11-03

申请日：

2020-07-22

授权号：

CN111885808B

授权日：

2022-04-29

发明人：

王涛时礼平吕栎张兴权童宝宏张国涛

申请人：

安徽工业大学

申请人地址：

安徽省马鞍山市湖东路59号

代理机构：

合肥昊晟德专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

王瑞

优先权：

CN202010713912.9

主分类号：

H05H1/26

IPC分类号：

H05H1/26 H05H1/30