一种等离子体射流辅助装置

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摘要

本实用新型公开了一种等离子体射流辅助装置，包括：检测控制模块、间隔调整器和接地引流片；检测控制模块与等离子体射流装置中的高压电源输出端连接；间隔调整器顶面开口，位于等离子体射流喷口处，底面分布有通孔和凹槽，等离子体射流装置产生的等离子体射流通过底面通孔流出；接地引流片嵌入所述间隔调整器的底面凹槽中，并与公共地极连接；检测控制模块，用于实时监测等离子体射流装置的电压电流状态，并在发生故障时断开等离子体射流装置的高压电源；间隔调整器，用于控制等离子体射流的长度并固定接地引流片；接地引流片，用于引导放电等离子体电流。本实用新型能够提高等离子体射流装置的应用安全，同时使离子体阵列均匀放电，提高等离子体性能。

基本信息

专利标题：

一种等离子体射流辅助装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920886255.0

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-06-13

授权号：

CN210670706U

授权日：

2020-06-02

发明人：

卢新培吴帆马明宇

申请人：

华中科技大学

申请人地址：

湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

代理机构：

华中科技大学专利中心

代理人：

曹葆青

优先权：

CN201920886255.0

主分类号：

H05H1/26

IPC分类号：

H05H1/26