一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置
授权
摘要
本实用新型涉及一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置，包括等离子体产生组件、光电转换组件和PID控制组件，所述的PID控制组件分别与等离子体产生组件和光电转换组件电连接，所述的光电转换组件设置于等离子体产生组件的出气口处，用于测量谱线强度并将光信号转变为电信号，所述的PID控制组件包括PID控制器、显示屏以及调节按钮，所述的PID控制器用于计算标准电离电压，所述的调节按钮用于调节等离子体产生组件内的实际电离电压，所述的显示屏用于显示标准电离电压和实际电离电压，与现有技术相比，本实用新型具有结构简单、成本低且可反馈调节控制等离子体射流强度等优点。
基本信息
专利标题 ：
一种通过反馈环节控制电源的等离子体射流装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921921616.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-08
授权号 ：
CN210986553U
授权日 ：
2020-07-10
发明人 ：
殷炜宏李国强段倩倩胡兴
申请人 ：
上海工程技术大学
申请人地址 ：
上海市松江区龙腾路333号
代理机构 ：
上海科盛知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨宏泰
优先权 ：
CN201921921616.7
主分类号 ：
H05H1/00
IPC分类号 ：
H05H1/00 H05H1/48 G05B11/42
法律状态
2020-07-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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