三维等离子体射流自动控制系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种三维等离子体射流自动控制系统，包括：上位机，连接于所述上位机的主控制器和气体状态控制器，以及，连接于所述主控制器的三轴导轨控制系统和高压电源状态控制器；其中，所述气体状态控制器被配置为可与一等离子体射流装置的气体流量控制端连接，所述高压电源状态控制器被配置为可与所述等离子体射流装置的电源参数控制端连接。
基本信息
专利标题 ：
三维等离子体射流自动控制系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220233433.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-27
授权号 ：
CN216752194U
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
张若兵赵子新郭新正王竞泽
申请人 ：
清华大学深圳国际研究生院
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽街道深圳大学城清华校区A栋二楼
代理机构 ：
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐罗艳
优先权 ：
CN202220233433.1
主分类号 ：
H05H1/00
IPC分类号 ：
H05H1/00 H05K9/00
法律状态
2022-06-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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