用于操作等离子体射流构造的系统和方法
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摘要
本发明涉及一种用于产生和控制非热大气压等离子体的系统(1)，包括：‑放电空间(10)，工作气体可经由第一开口(12)引入到所述放电空间中，其中，等离子体(5)可在所述放电空间(10)中产生，其中，所述放电空间(10)具有第二开口(14)，使得所述等离子体(5、6)能够通过所述第二开口(14)离开所述放电空间(10)，以及‑至少一个高压电极(20)，用于产生电磁场，以在所述放电空间(10)中产生等离子体(5)。通过第二开口(14)离开的等离子体(5、6)由系统(1)的流量控制器(40)控制，该流量控制器形成为设定从工作气体源(50)通过第一开口(12)进入放电空间(10)的工作气体的体积流量(60)。在这种情况下，流量控制器(40)还形成为至少采用第一状态和第二状态，其中，在第一状态下，没有工作气体从工作气体源(50)供应到放电空间(10)，使得即使在放电空间(10)中存在产生的电磁场时，也没有等离子体(5)从第二开口(14)离开，并且其中，在第二状态下，工作气体从工作气体源(50)供应到放电空间(10)，等离子体(5)在放电空间(10)中产生，并且等离子体(5、6)从第二开口(14)离开。
基本信息
专利标题 ：
用于操作等离子体射流构造的系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114557137A
申请号 ：
CN202080069751.2
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2020-10-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
雷克·科尔斯克劳斯·迪特尔·韦尔特曼菲利普·图尔斯基诺伯特·莱姆布克托尔斯滕·格林劳拉·维拉德尔·斯科尔滕斯特凡·霍恩
申请人 ：
布莱尼茨等离子科学和技术研究所
申请人地址 ：
德国格赖夫斯瓦尔德
代理机构 ：
北京市万慧达律师事务所
代理人 ：
谢敏楠
优先权 ：
CN202080069751.2
主分类号 ：
H05H1/24
IPC分类号 ：
H05H1/24 H05H1/26
法律状态
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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