密封装置及具有其的真空设备
授权
摘要
本实用新型涉及真空密封技术领域，提出了一种密封装置及具有其的真空设备。密封装置适用于真空设备，包括密封座、V组密封结构以及挡料密封结构，密封座用于套设在真空设备的运动轴上，密封座与运动轴之间形成有第一容纳腔和第二容纳腔，第一容纳腔和第二容纳腔间隔设置，且第一容纳腔相比于第二容纳腔更远离真空设备的真空腔；V组密封结构设置在第一容纳腔内，V组密封结构的开口背离真空腔；挡料密封结构设置在第二容纳腔内。通过在密封座与运动轴之间设置有V组密封结构和挡料密封结构，既可以保证可靠的真空密封，又可以防止真空腔内的物料泄漏，且密封有磨损补偿，可以大大延长使用寿命，成本较低且可靠性高。
基本信息
专利标题 ：
密封装置及具有其的真空设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021536762.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
CN213655731U
授权日 ：
2021-07-09
发明人 ：
张伟胡湘娥邝光照
申请人 ：
中山凯旋真空科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市横栏镇环镇北路27号
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
孙宝海
优先权 ：
CN202021536762.0
主分类号 ：
F16J15/3284
IPC分类号 ：
F16J15/3284 F16J15/324 F16J15/3276
法律状态
2021-07-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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