真空设备的感测装置
专利权的终止
摘要

一种真空设备的感测装置,该真空设备包含一界定出一真空容室的真空腔体,而该感测装置包含:一气密地插接在该真空腔体上的安装单元、一装设在安装单元外侧的隔离件、一将隔离件定位在安装单元上的衔接单元及一固定地安装在衔接单元上的感测元件。该安装单元包括一沿其长向贯穿且连通真空容室的通道。该隔离件安装在通道的外端上用于阻隔通道使其不与外界连通。该感测元件能透过隔离件感测到通道内的物性。通过安装单元与衔接单元的装设及隔离件的阻隔,将感测元件安装在真空腔体外,可具有较准确的感测结果,而且也利于调整换装。

基本信息
专利标题 :
真空设备的感测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200820000084.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2008-01-04
授权号 :
CN201153118Y
授权日 :
2008-11-19
发明人 :
黄泳钊许三益郑博仁
申请人 :
北儒精密股份有限公司
申请人地址 :
中国台湾台南县新市乡环东路二段23号
代理机构 :
北京邦信阳专利商标代理有限公司
代理人 :
王昭林
优先权 :
CN200820000084.9
主分类号 :
H01L21/00
IPC分类号 :
H01L21/00  H01L21/02  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
法律状态
2015-02-25 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101599724499
IPC(主分类) : H01L 21/00
专利号 : ZL2008200000849
申请日 : 20080104
授权公告日 : 20081119
终止日期 : 20140104
2008-11-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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