一种电容式双棱镜干涉实验测量装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电容式双棱镜干涉实验测量装置,包括激光器、第一凸透镜、位移处理显示系统、电容器、光电探测器、滑座、第二凸透镜、轨道和双棱镜;所述激光器、第一凸透镜、双棱镜、第二凸透镜和光电探测器五个光学元件依次排列在轨道上,并处于同一光轴线上;所述轨道上划分有刻度线;所述电容器中的一个电容极板与光电探测器连接,调节光电探测器时带动与其连接的电容极板一同位移,两个电容极板正对面积发生变化,引起电容量变化;所述位移处理显示系统与电容器连接,将电容量的变化转化为光电探测器的位移数值显示出来。本实用新型可以使得光路共轴调节直观可见,也使得测量干涉条纹间距更方便和准确。
基本信息
专利标题 :
一种电容式双棱镜干涉实验测量装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021538795.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-30
授权号 :
CN212621142U
授权日 :
2021-02-26
发明人 :
段秀铭易志军张伦
申请人 :
中国矿业大学
申请人地址 :
江苏省徐州市大学路1号
代理机构 :
苏州衡创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王睿
优先权 :
CN202021538795.9
主分类号 :
G01J9/02
IPC分类号 :
G01J9/02 G01B7/02 G01B7/14 G09B23/22
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分,偏振、相位或脉冲特性的测量;比色法;辐射高温测定法
G01J9/00
测量光学相位差;测定相干性的程度;测量光学波长
G01J9/02
采用干涉法
法律状态
2021-02-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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