一种去除小颗粒多晶硅料中表面杂质用清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种去除小颗粒多晶硅料中表面杂质用清洗装置，属于多晶硅生产技术领域，包括池体，池体上端开口且下端封闭，池体上方设置有溢流堰，溢流堰上设置有导流管，池体底部设置有进液口和气体分布板，进液口与进液管相连，气体分布板与进气管相连，体中部设置有导流筒，导流筒通过支腿与池体内壁固定连接。本实用新型具有良好的清洗性能且更节省人力成本。
基本信息
专利标题 ：
一种去除小颗粒多晶硅料中表面杂质用清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021561148.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-31
授权号 ：
CN213134261U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
杨楠李寿琴贾琳蔚陈绍林
申请人 ：
云南通威高纯晶硅有限公司
申请人地址 ：
云南省保山市工贸园区昌宁园中园
代理机构 ：
成都天嘉专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
赵丽
优先权 ：
CN202021561148.X
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B3/04
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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