一种氦质谱检漏仪的清氦系统
授权
摘要
本实用新型公开了一种氦质谱检漏仪的清氦系统,属于氦质谱检漏仪清理装置领域,解决传统氦质谱检漏仪无法清理残留氦气的问题。该清氦系统包括氦质谱检漏仪本体,氦质谱检漏仪本体上分别设有进气总管和出气管,还包括控制模块和抽风机,所述的抽风机通过连接管与氦质谱检漏仪本体连通,所述的进气总管上分别设有与其连通的第一进气管、第二进气管,所述的第一进气管上设有第一电磁阀,所述的第二进气管上设有第二电磁阀,所述的出气管上设有第三电磁阀,所述的出气管内设有氦气浓度检测传感器,所述的氦气浓度检测传感器、第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀均与控制模块电性连接。本实用新型的氦质谱检漏仪清氦系统,能够有效清除氦质谱检漏仪内的氦气。
基本信息
专利标题 :
一种氦质谱检漏仪的清氦系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021646048.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-10
授权号 :
CN212482824U
授权日 :
2021-02-05
发明人 :
史萌萌
申请人 :
湖北锐诚真空科技有限公司
申请人地址 :
湖北省荆门市钟祥市南湖新区协企联盟产业园24号厂房
代理机构 :
广州海心联合专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
马赟斋
优先权 :
CN202021646048.7
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20 B01D46/10 B01D46/42
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2021-02-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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