一种裂片盘装置
授权
摘要

本实用新型公开了一种裂片盘装置,包括:裂片盘本体和缓冲斜面;所述裂片盘本体上分为承载区和非承载区,且所述承载区上整列设置有多个通孔;所述缓冲斜面设置于所述裂片盘本体的一侧,用于承接掉落的面板;所述缓冲斜面靠近所述裂片盘本体一侧的高度大于所述缓冲斜面远离所述裂片盘本体一侧的高度,且所述缓冲斜面靠近所述裂片盘本体一侧的高度不高于所述裂片盘本体的高度。上述技术方案通过加设所述缓冲斜面和通孔提高生产和裂片效率,所述裂片盘装置可以用来收纳承载未裂片的合板而不影响离线切割机的产能。通过所述承载区上的多个通孔解决传统载台容易吸附住玻璃合板导致裂片效率低的问题。

基本信息
专利标题 :
一种裂片盘装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021761984.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-21
授权号 :
CN212810254U
授权日 :
2021-03-26
发明人 :
黄德清
申请人 :
福建华佳彩有限公司
申请人地址 :
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 :
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
林祥翔
优先权 :
CN202021761984.2
主分类号 :
H01L21/673
IPC分类号 :
H01L21/673  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2021-03-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212810254U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332