一种半导体生产用离子清洗机
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体生产用离子清洗机，具体涉及半导体生产技术领域，包括机体，所述机体的两侧外壁上设置有多组载物件，所述机体的前表面设置有显示屏，所述机体的前表面靠近显示屏一侧设置有真空室，所述真空室的内部设置有压合件。本实用新型中利用自动复位的压网，从而带动压网压合在半导体产品上，能够较为快速进行限位固定，保证了其在清洗作业中的稳定性，不会由于冲击力而导致发生四处乱窜的现象，从而使得离子清洗的更加干净，并且能够对不同规格型号的产品进行限位，使用范围较为广阔，具备较高的实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体生产用离子清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021812550.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-26
授权号 ：
CN212461619U
授权日 ：
2021-02-02
发明人 ：
张文翰
申请人 ：
深圳市星曜微半导体有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市龙华区观澜街道大富社区桂月路334号硅谷动力汽车电子创业园A11栋101
代理机构 ：
重庆百润洪知识产权代理有限公司
代理人 ：
沈锋
优先权 ：
CN202021812550.0
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/687
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-02-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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