全自动反射镜耦光系统用自动加电机构
授权
摘要
本实用新型属于耦光系统设备技术领域，涉及一种全自动反射镜耦光系统用自动加电机构，包括第一手动滑台，所述第一手动滑台的顶面配合设置增高块，增高块的顶面配合设置第二手动滑台，第二手动滑台的顶面配合设置上电气缸固定块，上电气缸固定块的顶面安装上电气缸，上电气缸的气口安装调速阀；上电气缸的活塞杆连接气缸转接件，气缸转接件固定连接第三连接件，第三连接件的通孔内设置销轴，销轴的两端分别转动连接第一连接件，每个所述第一连接件上分别配合设置第二连接件，第三连接件的顶面配合设置尼龙件，尼龙件上安装上电探针组。该加电机构能够对多种型号的芯片加电，结构简单、成本较低，适合大范围推广使用。
基本信息
专利标题 ：
全自动反射镜耦光系统用自动加电机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021836173.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-27
授权号 ：
CN212810244U
授权日 ：
2021-03-26
发明人 ：
谢石富赵谢辉
申请人 ：
无锡奥普特自动化技术有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市滨湖区高浪东路999号B1号楼4层
代理机构 ：
无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)
代理人 ：
殷红梅
优先权 ：
CN202021836173.4
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-03-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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