高效率高稳定性水平沉铜的自动加药装置
授权
摘要
本实用新型涉及水平沉铜技术领域，具体为高效率高稳定性水平沉铜的自动加药装置，包括水平沉铜设备主体，所述水平沉铜设备主体的侧面设置有加药机构，所述加药机构包括储药箱，所述水平沉铜设备主体的左侧设置有储药箱，且储药箱的内壁插设有滑块，所述滑块远离储药箱内壁的一端固定连接有连接框，且连接框的表面固定连接有观察杆，所述连接框的内壁固定连接有第一连接杆。本实用新型设置有观察杆与浮板，通过浮板漂浮在药液的表面，可以使在药液使用时，会带动观察杆在储药箱的内部移动，从而通过观察观察杆插设在储药箱内部的长度，可以有效的方便观察药液的使用量，便于药液可以及时的清理。
基本信息
专利标题 ：
高效率高稳定性水平沉铜的自动加药装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021900414.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
CN212910234U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
沈海平严星冈沈兴学高建华
申请人 ：
广德东风电子有限公司
申请人地址 ：
安徽省宣城市广德县经济开发区PCB产业园
代理机构 ：
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王俊晓
优先权 ：
CN202021900414.7
主分类号 ：
H05K3/18
IPC分类号 ：
H05K3/18 C23C18/31
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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