高效率高稳定性水平沉铜的化铜槽不易结铜装置
授权
摘要
本实用新型涉及化铜槽技术领域，具体为高效率高稳定性水平沉铜的化铜槽不易结铜装置，包括化铜槽装置主体，所述化铜槽装置主体包括化铜槽本体，所述化铜槽本体的背面插入有橡胶塞，所述化铜槽本体的外侧固定安装有稳定机构，所述化铜槽本体的顶端固定安装有度量机构，所述化铜槽本体的内部固定安装有排气管，所述化铜槽本体内壁、排气管和输气管道均为PPE聚丙乙烯材质。本实用新型通过设置有空箱、橡胶圈、进气口、密封球、出气口和固定板，通过稳定的空气搅拌，使得反应更加稳定均匀，当作业结束后，液体无法进入气管内部，从而保证气管不会积攒液体，防止化铜槽本体内部管道结铜。
基本信息
专利标题 ：
高效率高稳定性水平沉铜的化铜槽不易结铜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021900421.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-03
授权号 ：
CN212910265U
授权日 ：
2021-04-06
发明人 ：
沈海平严星冈陈华星高建华
申请人 ：
广德东风电子有限公司
申请人地址 ：
安徽省宣城市广德县经济开发区PCB产业园
代理机构 ：
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
王俊晓
优先权 ：
CN202021900421.7
主分类号 ：
H05K3/42
IPC分类号 ：
H05K3/42
法律状态
2021-04-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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