高效率高稳定性水平沉铜的化铜槽不易结铜装置
授权
摘要
本实用新型涉及化铜槽技术领域,具体为高效率高稳定性水平沉铜的化铜槽不易结铜装置,包括化铜槽装置主体,所述化铜槽装置主体包括化铜槽本体,所述化铜槽本体的背面插入有橡胶塞,所述化铜槽本体的外侧固定安装有稳定机构,所述化铜槽本体的顶端固定安装有度量机构,所述化铜槽本体的内部固定安装有排气管,所述化铜槽本体内壁、排气管和输气管道均为PPE聚丙乙烯材质。本实用新型通过设置有空箱、橡胶圈、进气口、密封球、出气口和固定板,通过稳定的空气搅拌,使得反应更加稳定均匀,当作业结束后,液体无法进入气管内部,从而保证气管不会积攒液体,防止化铜槽本体内部管道结铜。
基本信息
专利标题 :
高效率高稳定性水平沉铜的化铜槽不易结铜装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021900421.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-03
授权号 :
CN212910265U
授权日 :
2021-04-06
发明人 :
沈海平严星冈陈华星高建华
申请人 :
广德东风电子有限公司
申请人地址 :
安徽省宣城市广德县经济开发区PCB产业园
代理机构 :
合肥正则元起专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
王俊晓
优先权 :
CN202021900421.7
主分类号 :
H05K3/42
IPC分类号 :
H05K3/42
法律状态
2021-04-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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