一种电子元器件电镀杂质去除装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种电子元器件电镀杂质去除装置,涉及电镀除杂技术领域,本实用新型包括一种电子元器件电镀杂质去除装置,包括支撑装置、搅拌装置、过滤装置、化合装置以及收集装置,所述支撑装置包括工作箱以及转动轴,所述搅拌装置包括搅拌叶、第一轴承以及第一支撑板,所述过滤装置包括第二轴承、防护板、清理箱门以及锁环所述化合装置包括放药斗、第三轴承、第四轴承以及第二支撑板。本实用新型中,通过搅拌装置保证了液体的流动速度,增加了结晶效率,第一轴承保护了转动轴不易磨损,控制阀方便电镀液的控制流出进入下一级,过滤漏框使得电镀液的大部分杂质被过滤,挡板和控制开关可以在化合时挡着液体,化合完成后释放液。
基本信息
专利标题 :
一种电子元器件电镀杂质去除装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022000207.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-14
授权号 :
CN213061091U
授权日 :
2021-04-27
发明人 :
马梓程
申请人 :
镇江锦兴表面工程技术有限公司
申请人地址 :
江苏省镇江市新区镇澄路198号镇江电镀环保专业区
代理机构 :
南京创略知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
柳强
优先权 :
CN202022000207.2
主分类号 :
C25D21/06
IPC分类号 :
C25D21/06 C25D21/10 C25D21/14 C25D21/08
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/06
过滤
法律状态
2021-04-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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