一种远红外硅基超透镜增透膜及超透镜
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型实公开了一种远红外硅基超透镜增透膜及超透镜,远红外硅基超透镜增透膜包括依次设置的基底层、Ge层、相互交替的ZnS层和YF3层;其中所述Ge层和所述YF3层不相邻,所述远红外硅基超透镜增透膜的最外层为ZnS层,所述Ge层、相互交替的所述ZnS层和所述YF3层的厚度之和大于300nm,所述远红外硅基超透镜增透膜除所述基底层外包括4层以上。通过在超透镜的平面基底和微纳结构面上镀增透膜来提高硅基超透镜在远红外波段的透过率。相比现有的红外超透镜,本实用新型的远红外硅基超透镜增透膜有效提高了超透镜的宽谱透过率,且膜层致密,膜层间应力相匹配、附着力强,且远红外硅基超透镜增透膜制备简单。

基本信息
专利标题 :
一种远红外硅基超透镜增透膜及超透镜
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022010432.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-14
授权号 :
CN213903843U
授权日 :
2021-08-06
发明人 :
郝成龙谭凤泽朱健
申请人 :
深圳迈塔兰斯科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区福海街道塘尾社区荔园路翰宇生物工程有限公司6号楼619
代理机构 :
北京卓恒知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王珂瑜
优先权 :
CN202022010432.4
主分类号 :
G02B1/115
IPC分类号 :
G02B1/115  G02B3/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B1/00
按制造材料区分的光学元件;用于光学元件的光学涂层
G02B1/10
对光学元件表面涂覆或对它进行表面处理后所产生的光学涂层
G02B1/11
抗反射涂层
G02B1/113
仅使用无机材料
G02B1/115
多层
法律状态
2021-08-27 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G02B 1/115
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳迈塔兰斯科技有限公司
变更后 : 深圳迈塔兰斯科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518101 广东省深圳市深圳市宝安区福海街道塘尾社区荔园路翰宇生物工程有限公司6号楼619
变更后 : 518000 广东省深圳市宝安区新安街道上合社区33区大宝路83号美生慧谷科技园秋谷8栋6楼
2021-08-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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