一种带有负压装置的钙钛矿薄膜涂布设备
授权
摘要
本实用新型公开一种带有负压装置的钙钛矿薄膜涂布设备，包括：底座；涂布平台，设置于底座上，且与底座滑动连接，涂布平台用于承载涂布基底；模头装置，包括：模头架以及设置于模头架上的模头，在模头内部设有溶液通道，模头底部的溶液通道出液口处设有模唇，模头能够上下升降；供液装置，与溶液通道的入液口连接，为模头提供溶液；负压装置，包括：负压盒，负压盒通过抽真空管路与真空泵连接，负压盒设置于涂布平台上，且与涂布平台滑动连接。本实用新型在模头和涂布基底之间增加了负压，一方面可以有效减小涂布区域的气压，另一方面给液桥施加一个负压拉力，使液桥更稳定，从而大大降低孔的产生。
基本信息
专利标题 ：
一种带有负压装置的钙钛矿薄膜涂布设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022047768.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-17
授权号 ：
CN213255465U
授权日 ：
2021-05-25
发明人 ：
郑永强张宇高辉孙国平欧阳俊波韩长峰冯宗宝钱磊张德龙
申请人 ：
江苏集萃分子工程研究院有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市常熟高新技术开发区贤士路88号6-7幢202
代理机构 ：
苏州华博知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄丽莉
优先权 ：
CN202022047768.8
主分类号 ：
B05C9/02
IPC分类号 ：
B05C9/02 B05C11/10 B05C11/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B05
一般喷射或雾化；对表面涂覆流体的一般方法
B05C
一般对表面涂布流体的装置
B05C9/00
把液体或其他流体涂于表面的装置或设备，所采用的方法未包含在B05C1/00至B05C7/00组，或表面涂布液体或其他流体的方法不是重要的
B05C9/02
对表面涂布液体或其他流体采用B05C1/00至B05C7/00中未包含的一个方法，不论是否还使用其他的方法
法律状态
2021-05-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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