连续镀膜溅镀系统
授权
摘要
连续镀膜溅镀系统，包括吹扫室（3）和真空镀膜室（6），吹扫室（3）内设置辊轴输送装置（11），辊轴输送装置（11）上方依次设置清扫头（10）和吸尘口（8）；清扫头（10）通过转轴（9）连接伺服电机（1），伺服电机（1）固定在吹扫室（3）顶面；吸尘口（8）与吸尘管（7）连接，吸尘管（7）上设置电磁阀一（2）；吹扫室（3）和真空镀膜室（6）之间设置分隔板（4），分隔板（4）上设置输送口（12），辊轴输送装置（11）通过传输板（13）与镀膜架（14）连接；镀膜架（14）设置在镀膜室（6）内，镀膜室（6）顶部设置抽真空管（5）。本实用新型通过增设清扫头和吸尘口确保被镀塑料件无灰尘，提高溅镀质量。
基本信息
专利标题 ：
连续镀膜溅镀系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022202365.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN214529219U
授权日 ：
2021-10-29
发明人 ：
周兴
申请人 ：
启东申通电子机械配件有限公司
申请人地址 ：
江苏省南通市启东市汇龙镇新洪南路99号
代理机构 ：
南京正联知识产权代理有限公司
代理人 ：
蒯建伟
优先权 ：
CN202022202365.6
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2021-10-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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