本实用新型公开了一种用于全自动混酸系统的间歇式密闭混合槽，涉及半导体加工技术领域。本实用新型包括密闭混合槽主体、隔膜泵和三通阀，密闭混合槽主体的一侧设置有隔膜泵，隔膜泵的另一侧设置有过滤机构。本实用新型通过设置密封罩和耐腐蚀内衬层，密封罩通过固定件盖在混合槽体上部，将槽体密封，这样在混酸时，避免高挥性物质在混配中挥发，从而可避免混酸后配比质量分量误差大，耐腐蚀内衬层固定在槽体的内底面和内侧面上，可起到对槽体的腐蚀保护作用，提高槽体的使用寿命和使用的安全性，解决了现有的技术混酸时高挥性物质易挥发，容易导致配比质量分量误差大，并且现有的混合槽耐腐蚀性差，使用寿命短的问题。