一种硼扩散装置
授权
摘要
本实用新型提供一种硼扩散装置，包括扩散炉、石英舟、进气机构和排气机构。扩散炉的第一端设置炉门，扩散炉的第二端设置进气口和排气口，进气口处设置第一进气管，排气口处设置第一排气管；进气机构包括硼源储存罐、第一合流元件、第二进气管、第三进气管和第一连接管；排气机构包括耐压储水罐、第二合流元件、第二排气管、第四进气管和第二连接管。本实用新型的硼扩散装置，排气机构具有水洗排气管路功能，能够有效解决硼扩散反应生成物堵塞排气管路的问题，炉门内侧设置保温扰流板，缓解反应生成物粘结炉门的问题；硼源储存罐设于源温控制装置内，能够保持BBr3液体温度恒定。
基本信息
专利标题 ：
一种硼扩散装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022256883.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-12
授权号 ：
CN213150732U
授权日 ：
2021-05-07
发明人 ：
李铁李杨
申请人 ：
江苏沃宏装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市惠山区洛社镇秦巷村
代理机构 ：
南京科知维创知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
许益民
优先权 ：
CN202022256883.6
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/223
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-05-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
