一种扩散炉净化台冷却系统
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摘要
一种扩散炉净化台冷却系统，包括净化台框架和冷却装置，所述冷却装置包括风冷装置、水冷装置，所述风冷装置包括进风口、出风口以及电机，进风口以及电机设置于净化台框架的上方，出风口位于净化台框架内部；所述水冷装置包括水冷盘、水冷管道和风机，所述水冷盘设置于净化台框架的上方，水冷盘风机设置于水冷盘一侧，水冷管道连接进出水管道；本实用新型采用风冷和水冷两种冷却方式相结合，通过管路结构与炉体内部相连接，解决硅片进出炉时，净化台内部温度升高对设备性能和生产效率的影响，进而加快工艺冷却速度，提高工艺生产效率，并且降低电器设备的故障率；本装置能够高效、安全、简便的对炉体进行散热，起到保障硅片生产的作用。
基本信息
专利标题 ：
一种扩散炉净化台冷却系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022323704.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-17
授权号 ：
CN214244671U
授权日 ：
2021-09-21
发明人 ：
林佳继郭永胜刘群庞爱锁林依婷
申请人 ：
深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
代理机构 ：
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
董世博
优先权 ：
CN202022323704.6
主分类号 ：
C30B31/00
IPC分类号 ：
C30B31/00 C30B29/06 F27D9/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B31/00
单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之扩散或掺杂工艺；其所用装置
法律状态
2021-09-21 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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