一种纳米压印翻模机工装治具
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型公开了一种纳米压印翻模机工装治具,包括硬模板,设置在硬模板上可上下浮动的环形挡圈,设置在硬模板上方用于取出软模板的取料盘;所述环形挡圈的外侧设置有一圈沿环形挡圈半径方向来回移动的离子风扩散装置,所述离子风扩散装置的内侧壁上均匀设置有离子风出风孔,在离子风扩散装置内设置有与离子风出风孔连通的主进风道及与主进风道连通的进风口;还设置有带动离子风扩散装置移动的驱动装置。本实用新型通过等离子风消除软膜表面的静电,减少软模板表面的颗粒和表面纳米级尺寸粘连,从而保证软模板的清洁度,满足高精度加工的要求,提高产品的质量。

基本信息
专利标题 :
一种纳米压印翻模机工装治具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022488650.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-11-02
授权号 :
CN213149471U
授权日 :
2021-05-07
发明人 :
史伟言彭艳亮张磊李京波刘建哲徐良
申请人 :
黄山博蓝特半导体科技有限公司
申请人地址 :
安徽省黄山市屯溪区九龙低碳经济园区翠薇北路66号
代理机构 :
芜湖众汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
曹宏筠
优先权 :
CN202022488650.9
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  H01L33/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2021-09-21 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G03F 7/00
登记生效日 : 20210908
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 黄山博蓝特半导体科技有限公司
变更后权利人 : 黄山博蓝特光电技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 245000 安徽省黄山市屯溪区九龙低碳经济园区翠薇北路66号
变更后权利人 : 245000 安徽省黄山市黄山九龙低碳经济园区翠薇北路66号
2021-05-07 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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