一种实验室用多功能电镀铜槽
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摘要

本实用新型提供了一种实验室用多功能电镀铜槽,该电镀铜槽包括控制箱和电镀槽主体,控制箱内设置有脉冲整流器插座、直流整流器插座和摇摆控制器,所述电镀槽主体为上端开口的正方体或长方体,其上端设置有用于悬挂待电镀产品的阴极杆和布置在阴极杆两侧的两个用于悬挂阳极的阳极杆,阴极杆两端通过摇摆装置安装在电镀槽主体上,每个阳极杆的两端通过可以沿电镀槽主体边缘移动的可移动座安装在所述电镀槽主体上,该实验室用多功能电镀铜槽还包括打气系统,该打气系统的打气管设置在电镀槽主体内部并且打气管的四周壁上设置有打气孔。该电镀铜槽既可以模拟垂直连续电镀线的电镀方式,还可以达到传统龙门电镀线的效果,即实现一槽多用的效果。

基本信息
专利标题 :
一种实验室用多功能电镀铜槽
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022494240.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-11-02
授权号 :
CN213596442U
授权日 :
2021-07-02
发明人 :
董光义刘建王芳王兴平
申请人 :
确信乐思化学(上海)有限公司
申请人地址 :
上海市奉贤区楚华北路29号
代理机构 :
上海天翔知识产权代理有限公司
代理人 :
高迷想
优先权 :
CN202022494240.5
主分类号 :
C25D17/02
IPC分类号 :
C25D17/02  C25D7/00  C25D3/38  C25D5/18  C25D17/00  C25D21/18  C25D5/08  C25D17/04  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D17/00
电解镀覆用电解槽的结构件、或其组合件
C25D17/02
镀槽;镀槽的安装
法律状态
2021-07-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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