本公开提供了一种热处理系统。所述热处理系统可以包括处理室和设置在所述处理室之内的工件。所述热处理系统可以包括配置为向所述工件发射光的热源。所述热处理系统还可以包括设置在所述工件和所述热源之间的可调谐反射阵列。所述可调谐反射阵列可以包括多个像素。所述多个像素的每个像素可以包括可配置为半透明状态或不透明状态的电致变色材料。当像素的所述电致变色材料被配置为半透明状态时，光至少部分地通过所述像素。相反，当所述像素的所述电致变色材料被配置为所述不透明状态时，减少光通过所述像素的透射。