温度控制方法、温度控制装置、热处理装置及热处理方法
专利权的终止
摘要
本发明中，可以容易地进行为在连续炉(3)中按所期望的温度曲线对玻璃基板(2)进行热处理，而对各炉(31～33)的设定温度的调整作业。使用模型以矩阵推定在改变各炉(31～33)的设定温度时，连续炉(3)的各观测点处的玻璃基板(2)的温度变化，使用该矩阵的逆矩阵算出补偿值，并根据该算出值补偿设定温度以使玻璃基板(2)的温度在上述各观测点处变为所期望的温度曲线的温度。
基本信息
专利标题 ：
温度控制方法、温度控制装置、热处理装置及热处理方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1975619A
申请号 ：
CN200610001462.0
公开（公告）日 ：
2007-06-06
申请日 ：
2006-01-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
田中政仁南野郁夫高石明
申请人 ：
欧姆龙株式会社
申请人地址 ：
日本京都市
代理机构 ：
北京金信立方知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄威
优先权 ：
CN200610001462.0
主分类号 ：
G05B23/00
IPC分类号 ：
G05B23/00 G05B13/04
IPC结构图谱
G
G部——物理
G05
控制；调节
G05B
一般的控制或调节系统；这种系统的功能单元；用于这种系统或单元的监视或测试装置
G05B23/00
控制系统或其部件的检验或监视
法律状态
2016-03-09 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101650103283
IPC(主分类) : G05B 23/00
专利号 : ZL2006100014620
申请日 : 20060117
授权公告日 : 20090610
终止日期 : 20150117
号牌文件序号 : 101650103283
IPC(主分类) : G05B 23/00
专利号 : ZL2006100014620
申请日 : 20060117
授权公告日 : 20090610
终止日期 : 20150117
2009-06-10 ：
授权
2007-08-01 ：
实质审查的生效
2007-06-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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