清洁边缘环凹部的系统和方法
实质审查的生效
摘要
本文描述了用于清洁边缘环凹部的系统和方法。所述方法中的一种包含：将一或多种处理气体提供至等离子体室、将低频(LF)射频(RF)功率供给至邻近等离子体室的卡盘定位的边缘环。LF RF功率在将一或多种处理气体供给至等离子体室时供给，以维持等离子体室内的等离子体。供给LF RF功率增加靠近边缘环凹部的等离子体离子的能量，以去除边缘环凹部内的残余物。LF RF功率是在等离子体室内未处理衬底的时间段期间内供给。
基本信息
专利标题 ：
清洁边缘环凹部的系统和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114342037A
申请号 ：
CN202080055895.2
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-07-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
艾利克·哈德森斯科特·布里格斯约翰·霍兰德阿列克谢·马拉赫塔诺夫菲力克斯·莱布·科扎克维奇肯尼思·卢凯西
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
樊英如
优先权 ：
CN202080055895.2
主分类号 ：
H01J37/32
IPC分类号 ：
H01J37/32
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/32
充气放电管
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 37/32
申请日 : 20200722
申请日 : 20200722
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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