用于光源的端部琢面保护和用于量测应用的方法
公开
摘要
公开一种用于提供光源的系统和方法。在一个布置中，所述光源包括：气室，所述气室具有窗口；光纤，所述光纤是中空的且具有轴向方向，所述光纤的端部被封闭于所述气室内且经由光学路径光学地耦合至所述窗口；以及表面，所述表面围绕所述光纤的所述端部设置，并且在所述轴向方向上朝向所述窗口延伸通过所述光纤的所述端部，以便限制以下中的一个或更多个：所述光学路径与所述气室的其余部分之间的气体的交换；等离子体朝向所述光纤或至所述光纤中的进入；以及朝向蚀刻敏感表面的自由基通量。
基本信息
专利标题 ：
用于光源的端部琢面保护和用于量测应用的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114303093A
申请号 ：
CN202080060742.7
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2020-07-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
帕特里克·塞巴斯蒂安·于贝尔塞巴斯蒂安·托马斯·鲍尔思科米特彼得·马克西米兰·戈茨A·尼基帕罗夫A·阿布多尔万德N·E·乌尊巴加卡瓦
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
王益
优先权 ：
CN202080060742.7
主分类号 ：
G02F1/3501
IPC分类号 ：
G02F1/3501 G02F1/365
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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