光学膜和制造此类光学膜的方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种制造光学膜的方法,其包括提供基膜。该基膜包括限定第一表面和第二表面的基底。该基膜还包括多个结构,该多个结构限定上表面和从对应上表面延伸到基部部分的至少一个侧表面。该方法还包括使催化剂材料沉积在多个结构中的每一者和基部部分上以便在其上形成催化剂层。该方法还包括选择性地将催化剂层从多个结构中的每一者的上表面和基部部分移除,同时保持多个结构中的每一者的至少一个侧表面上的催化剂层的活性。该方法包括在多个结构中的每一者的至少一个侧表面上形成金属层。

基本信息
专利标题 :
光学膜和制造此类光学膜的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114341676A
申请号 :
CN202080062236.1
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-08-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
丹尼尔·M·伦茨凯文·W·戈特里克杰里米·K·拉森凯莱布·T·纳尔逊丹尼尔·J·施密特彭菲
申请人 :
3M创新有限公司
申请人地址 :
美国明尼苏达州
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
孙微
优先权 :
CN202080062236.1
主分类号 :
G02B5/00
IPC分类号 :
G02B5/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/00
申请日 : 20200828
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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