发射器支撑结构和场发射装置
实质审查的生效
摘要
本发明的目的是在场发射装置中真空钎焊期间防止多余的钎料接合到保护电极。发射器支撑结构(1)的发射器支撑部(32)设置成可在场发射装置的真空室(20)的两端之间的方向上移动，并且支撑场发射装置的发射器(31)。发射器(31)装配到其中的突出部(51)设置在面向场发射装置的靶材(41)的发射器支撑部(32)的一个端部上。在突出部(51)的周壁部(52)上沿周壁部(52)的高度方向形成有切口(53)，并且在突出部(51)的外侧沿着周壁部(52)形成有多余钎料释放槽(54)。
基本信息
专利标题 ：
发射器支撑结构和场发射装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114424315A
申请号 ：
CN202080065684.7
公开（公告）日 ：
2022-04-29
申请日 ：
2020-05-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
越智隼人高桥怜那
申请人 ：
株式会社明电舍
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
王庆华
优先权 ：
CN202080065684.7
主分类号 ：
H01J35/06
IPC分类号 ：
H01J35/06 H01J1/304 H01J1/94
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J35/00
X射线管
H01J35/02
零部件
H01J35/04
电极
H01J35/06
阴极
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01J 35/06
申请日 : 20200512
申请日 : 20200512
2022-04-29 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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