构图催化剂层的方法和场发射器件的制造方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明公开了一种构图用于合成碳纳米管(CNT)的催化剂层的方法和使用该方法制造场发射器件(FED)的方法。所述构图催化剂层的方法包括:在基板上形成催化剂层,所述催化剂层由具有弱酸负离子团的金属盐形成;在所述催化剂层上形成光致抗蚀剂;使用光掩模将所述光致抗蚀剂曝光为预定的图案;使用强碱显影溶液来去除所述光致抗蚀剂和催化剂层的预定区;和去除所述光致抗蚀剂。

基本信息
专利标题 :
构图催化剂层的方法和场发射器件的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1822281A
申请号 :
CN200510137515.7
公开(公告)日 :
2006-08-23
申请日 :
2005-12-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
韩仁泽朴相铉金夏辰
申请人 :
三星SDI株式会社
申请人地址 :
韩国京畿道
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
陶凤波
优先权 :
CN200510137515.7
主分类号 :
H01J9/02
IPC分类号 :
H01J9/02  H01J9/00  G03F7/00  B05D1/00  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J9/00
专用于制造放电管、放电灯及其部件的设备和方法;从放电管或灯回收材料
H01J9/02
电极或电极系统的制造
法律状态
2010-11-24 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101043681041
IPC(主分类) : H01J 9/02
专利申请号 : 2005101375157
公开日 : 20060823
2008-02-27 :
实质审查的生效
2006-08-23 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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