将测量数据拟合至模型和对性能参数分布建模的方法以及相关联...
公开
摘要
披露了一种将测量数据拟合至模型的方法。该方法包括：获得与衬底的至少一部分的性能参数相关联的测量数据；以及通过在不允许测量数据与被拟合的模型之间的偏差超过阈值的同时使应用于模型的拟合参数的复杂性指标最小化，以将测量数据拟合至模型。
基本信息
专利标题 ：
将测量数据拟合至模型和对性能参数分布建模的方法以及相关联的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114585970A
申请号 ：
CN202080072295.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-10-05
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
阿利亚斯加尔·基瓦尼詹巴汉弗兰斯·雷尼尔·斯皮林J·S·威尔登伯格E·C·摩斯
申请人 ：
ASML荷兰有限公司
申请人地址 ：
荷兰维德霍温
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
张启程
优先权 ：
CN202080072295.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G06F30/27 G06N20/10
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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