用于选择性化学机械抛光氧化物的组合物及方法
公开
摘要
用于抛光具有硅氧材料的基板的化学机械抛光组合物，其包括：液体载剂；分散于该液体载剂中的立方形铈土研磨剂颗粒；以及，阴离子化合物和非离子化合物中的至少一者。
基本信息
专利标题 ：
用于选择性化学机械抛光氧化物的组合物及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114599752A
申请号 ：
CN202080074244.8
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-10-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
B.约翰逊A.W.海恩斯S.布罗斯南S.克拉夫特
申请人 ：
CMC材料股份有限公司
申请人地址 ：
美国伊利诺伊州
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
邢岳
优先权 ：
CN202080074244.8
主分类号 ：
C09G1/02
IPC分类号 ：
C09G1/02 H01L21/3105
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/02
含有磨料或研磨剂
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
