化学机械抛光用的选择性浆料
授权
摘要
一种用来在低－k介电体存在情况下进行选择性除去的水溶液。该溶液包含0－25重量％氧化剂；0.00002－5重量％多组分表面活性剂，该多组分表面活性剂具有疏水性尾部、非离子亲水性部分和阴离子亲水性部分，疏水性尾部具有6－30个碳原子，非离子亲水性部分具有10－300个碳原子；0－15重量％对非铁金属的抑制剂；0－50重量％磨料；0－20重量％非铁金属的络合剂；以及水。
基本信息
专利标题 ：
化学机械抛光用的选择性浆料
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1793274A
申请号 ：
CN200510136163.3
公开（公告）日 ：
2006-06-28
申请日 ：
2005-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
卞锦儒
申请人 ：
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
申请人地址 ：
美国特拉华州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
张宜红
优先权 ：
CN200510136163.3
主分类号 ：
C09K3/14
IPC分类号 ：
C09K3/14 C09G1/18 H01L21/304
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K3/00
不包含在其他类目中的材料
C09K3/14
防滑材料；研磨材料
法律状态
2008-04-02 ：
授权
2006-08-23 ：
实质审查的生效
2006-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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