用于化学机械抛光浆料的辅助剂
授权
摘要
本发明公开了一种用于阳离子带电材料和阴离子带电材料同时抛光的辅助剂，其在阳离子带电材料上形成吸附层以提高阴离子带电材料对阳离子带电材料的抛光选择性，其中所述辅助剂包含聚合电解质盐，该聚合电解质盐包含：(a)重均分子量为1,000～20,000并包含主链和侧链的接枝型聚合电解质；以及(b)基材。本发明还公开了包含上述辅助剂和磨粒的CMP(化学机械抛光)浆料。
基本信息
专利标题 ：
用于化学机械抛光浆料的辅助剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101068901A
申请号 ：
CN200580041069.8
公开（公告）日 ：
2007-11-07
申请日 ：
2005-12-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李基罗金种珌李政熹洪政填洪瑛晙金鲁马李安娜
申请人 ：
LG化学株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京金信立方知识产权代理有限公司
代理人 ：
朱梅
优先权 ：
CN200580041069.8
主分类号 ：
C09K3/14
IPC分类号 ：
C09K3/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K
不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K3/00
不包含在其他类目中的材料
C09K3/14
防滑材料；研磨材料
法律状态
2012-05-09 ：
授权
2008-01-02 ：
实质审查的生效
2007-11-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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