一种化学机械抛光浆料的应用

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明公开了一种化学机械抛光浆料在铜抛光中的应用，其包括研磨颗粒、有机膦酸、聚丙烯酸类和/或其共聚物、氧化剂和载体。本发明的化学机械抛光浆料可以防止金属材料的局部和整体腐蚀，减少衬底表面污染物，降低研磨颗粒的含量，提高铜的去除速率和降低钽的去除速率，从而获得不同基底的抛光选择性。

基本信息

专利标题：

一种化学机械抛光浆料的应用

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN103074632A

申请号：

CN201210545114.5

公开（公告）日：

2013-05-01

申请日：

2005-10-28

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

荆建芬张建蔡鑫元姚颖

申请人：

安集微电子(上海)有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区张江高科技园区龙东大道3000号5号楼602室

代理机构：

上海翰鸿律师事务所

代理人：

李佳铭

优先权：

CN201210545114.5

主分类号：

C23F3/06

IPC分类号：

C23F3/06

IPC结构图谱

C部——化学；冶金

C23

对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制

C23F

非机械方法去除表面上的金属材料；金属材料的缓蚀；一般防积垢；至少一种在C23大类中所列的方法及至少一种在C21D、C22F小类或者C25大类中所列的方法的多步法金属材料表面处理

C23F3/00

金属的化学法光亮处理

C23F3/04

重金属

C23F3/06

用酸性溶液的

法律状态

2017-07-28 ：

发明专利申请公布后的驳回

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101756288803
IPC(主分类) : C23F 3/06
专利申请号 : 2012105451145
申请公布日 : 20130501

2013-06-05 ：

实质审查的生效

号牌文件类型代码 : 1604
号牌文件序号 : 101465119650
IPC(主分类) : C23F 3/06
专利申请号 : 2012105451145
申请日 : 20051028

2013-05-01 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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