基于光致热折变玻璃的啁啾率可调的啁啾体光栅的曝光装置及啁...
授权
摘要

一种基于光致热折变玻璃的啁啾率可调的啁啾体光栅的曝光装置及啁啾体光栅的制备方法,所述的曝光装置至少包括一个发散柱面透镜系统和一个会聚柱面透镜系统,所述的啁啾体光栅的制备方法为变焦距对称入射的双柱面波干涉法,包括使不同焦距的一束发散柱面光束和一束会聚柱面光束在光致热折变玻璃处干涉,并在其体内形成周期渐变的干涉条纹,经热显影处理后得到任意啁啾率的啁啾体光栅。本发明提供了一种啁啾体光栅制备的曝光夹角、曝光距离、柱面透镜系统焦距等参数的计算方法,并在此基础上形成了啁啾率可调的啁啾体光栅的曝光装置及啁啾体光栅的制备方法,实现任意啁啾率的啁啾体光栅的制备。

基本信息
专利标题 :
基于光致热折变玻璃的啁啾率可调的啁啾体光栅的曝光装置及啁啾体光栅的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112799160A
申请号 :
CN202110119781.6
公开(公告)日 :
2021-05-14
申请日 :
2021-01-28
授权号 :
CN112799160B
授权日 :
2022-05-31
发明人 :
晋云霞莫建威孔钒宇邵建达何冬兵
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 :
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张宁展
优先权 :
CN202110119781.6
主分类号 :
G02B5/18
IPC分类号 :
G02B5/18  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
G02B5/18
衍射光栅
法律状态
2022-05-31 :
授权
2021-06-01 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02B 5/18
申请日 : 20210128
2021-05-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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